GF 7nm進展順利：極紫外光刻良率已達65％ - 3C

GlobalFoundries 7nm進展順利：極紫外光刻良率已達65％

http://news.mydrivers.com/1/553/553233.htm

AMD拆分出去的晶圓代工業務GlobalFoundries(GF)曾經長期各種不靠譜，新製程要嘛跳票
，要嘛良率和產能跟不上，多次迫使AMD更改產品規劃。 有這麼個“女朋友”，AMD也是
苦不堪言。

但是這兩年隨著自身實力的增強，以及外部合作的加深，GF是越來越靠譜了，14nm製程就
展現了不俗的實力，推動AMD Ryzen處理器、Vega顯卡表現均相當出色。

AMD也是對GF信心爆棚，直接與其簽訂多年合作協議，聯合跨過10nm，直接奔向7nm。

GF首席技術官Gary Patton近日在上海舉行的一次技術會議上披露， GF EUV極紫外光刻技
術的良品率已經提高到65％，公司將按計劃推進EUV的商用和普及。

EUV極紫外光刻採用波長為10-14nm的極紫外光(軟X射線)作為光源進行晶片光刻，是推動
半導體製程繼續前進到10nm之下的關鍵技術，Intel、三星、台積電、GF多年來都在努力
研發，只是技術難度實在太大，商用也是一再推遲。

GF也承認， EUV確實面臨很多挑戰，必須努力克服才能投入規模化量產，其目標是將良率
提高到95％。

Patton確認，GF將在7nm上首次應用EUV技術，目前已經在與AMD合作攻關 ，但量產時間未
披露。

AMD第二代Zen CPU架構、下一代Navi GPU架構，都將採用GF 7nm。

今年初，GF曾經推出了7LP(Leading-Performance) FinFET製程 ，相比於14nm FinFET號
稱性能可提升超過40％，集成密度翻一番。

GF還在推進12LP FinFET製程 ，也就是現有14nm的升級版本，將在2018年第一季度投產，
AMD Ryzen第二代處理器就有望使用它。

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GF：超星趕積追I！指日可待

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